KRI霍尔离子源eh 3000用于清洗PPS/PEEK衬底面

   日期:2020-10-16     浏览:0    评论:0    
核心提示:为了获得具备电磁屏蔽能力的PPS, PEEK等高分子轻量化材料,但PPS, PEEK导电性能差、无电磁波屏蔽能力或者达不到理想的屏蔽效果,因
  为了获得具备电磁屏蔽能力的 PPS, PEEK等高分子轻量化材料 PPS, PEEK 导电性能差、无电磁波屏蔽能力或者达不到理想的屏蔽效果因此某机构采用磁控溅射镀膜工艺对 PPSPEEK 等材料结构件产品表面进行金属化处理.

 

其工艺主要分为前处理、镀膜、后处理等个环节

 

前处理需要对 PPS/PEEK 待镀衬底面进行 Hall 离子源清洗该机构采用伯东 KRI 霍尔离子源 eh 3000  PPS/ PEEK 衬底面进行清洗.

 

KRI 霍尔离子源 Gridless eH 3000 主要技术参数:

离子源型号

霍尔离子源 eH3000

Cathode/Neutralizer

HC

电压

50-250V

电流

20A

散射角度

>45

可充其他

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

气体流量

5-100sccm

高度

6.0“

直径

9.7“

水冷

可选

 

其溅射室需要沉积前本底真空抽到 1×10-5 Pa, 经推荐采用伯东经济型分子泵组 HiCube 30 Eco其技术参数如下: 

泵组型号

进气法兰

分子泵
型号

抽速
氮气l/s

极限真空
 hPa

前级泵型号

前级泵
抽速 m³/h

Hicube 30 Eco

DN 40 ISO-KF

 Hipace 30

22

1X10-7

MVP 015-2

1

 

运用结果:

1. KRI 霍尔离子源 eh 3000 对衬底面良好的清洗提高了膜层的附着力

2. 经济型分子泵组 HiCube 30 Eco快速将本底真空抽到 1×10-5 Pa并稳定保持整个过程的真空度

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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